404 Not Found

2.0-2.5 ct رنگ HPHT DEF آزمایشگاه الماس خشن ، سنگ های خام الماس را برای فروش ایجاد کرد

CVD HPHT VS؟

همانطور که می دانیم دو روش برای تولید الماس پرورش یافته در آزمایشگاه وجود دارد ، درجه حرارت بالا و فشار بالا و cvd.کدام یک از این دو روش برای الماس های کشت شده بهتر است؟

فناوری HPHT: تکنولوژی درجه حرارت بالا و فشار بالا روند رشد الماس های طبیعی را کاملاً شبیه سازی کرده ، واکنش لایه عنصر کربن روی زمین را بازتولید می کند و گرافیت را به الماس تبدیل می کند.
روش HPHT (دما 1 400 ℃ -1 700 ℃ ، فشار 5.2GPa-5.6GPa) الماس به محیطی اطلاق می شود که رشد الماس های طبیعی را شبیه سازی می کند ، در یک دستگاه فشار قوی شش ضلعی ، گرافیت ، پودر الماس یا پودر گرافیت الماس به عنوان منبع کربن استفاده می شود ، سیستم کریستال معادل در محیط رشد درجه حرارت بالا و فشار بالا ، کاتالیزور فلز و غیره تشکیل شده است. تنها چند هفته طول می کشد تا 20 قیراط الماس کشت شده با استفاده از روش درجه حرارت بالا و فشار بالا تولید شود.

فرآیند رشد عبارت است از قرار دادن گرافیت با خلوص بالا به عنوان منبع کربن در منطقه با درجه حرارت بالا در محفظه رشد پرس بالا و قرار دادن دانه های الماس در منطقه با دمای پایین.منبع کربن که از یک گرادیان درجه حرارت مشخص استفاده می کند ، از منطقه با غلظت زیاد در دمای بالا به منطقه کم غلظت در دمای پایین پراکنده می شود.دانه های الماس در منطقه با درجه حرارت پایین فوق اشباع و متبلور شده ، سپس سرد شده و خارج می شوند و از اسید نیتریک غلیظ برای حذف ناخالصی های سطح الماس استفاده می شود.

فناوری CVD:معمولاً تحت تأثیر پلاسما با درجه حرارت بالا ، گاز حاوی کربن تفکیک می شود و اتم های کربن بر روی بستر قرار می گیرند و یک فیلم الماس ایجاد می کنند. الماس های تک کریستالی معمولاً با رسوب اتم های کربن روی بستر الماس تشکیل می شوند.گاز حاوی کربن معمولاً به گاز مخلوط حاوی نیتروژن ، متان و هیدروژن اطلاق می شود.متان منبع اتم های کربن در سنتز الماس است.نیتروژن می تواند سرعت رشد را افزایش دهد و هیدروژن می تواند از تشکیل گرافیت جلوگیری کند.معمولاً الماس مصنوعی CVD تحت فشار کم و شرایط درجه حرارت بالا انجام می شود ، فشار به طور کلی کمتر از یک اتمسفر است و درجه حرارت حدود 1 000 است.

از آنچه در بالا گفته شد ، می توان نتیجه گرفت: هر دو فناوری مزایای خاص خود را دارند. HTHP دارای راندمان بالاتر و رنگهای بهتر است ، و CVD خلوص بهتری داردبه تولید الماس خشن 1 قیراطی ، زیرا درجه حرارت بالا و فشار بالا (HTHP) از اتصال اتمهای کربن و اتمهای کربن تشکیل می شود ، بنابراین چرخه رشد فقط چند روز طول می کشد.رسوب بخار شیمیایی (CVD) عبارت است از تجزیه و رشد گاز حاوی کربن در ویفر بذر ، و تدریجا تجمع و تجمع ، که نیاز به یک چرخه رشد چند هفته ای دارد.از آنجا که دمای بالا و فشار بالا (HTHP) برای مشارکت در واکنش نیاز به یک کاتالیزور فلزی به عنوان حلال دارد ، تاثیری بر خلوص الماس خواهد داشت و خلوص رسوب بخار شیمیایی (CVD) کمی بهتر است.

جزئیات الماس های خشن آزمایشگاهی